TTV(Total Thickness Variation:全厚偏差)制御は、半導体ウェハの「厚みの均一性」を極限まで高める技術です。

2026年現在、BSPDN(裏面電源供給)の導入により、ウェハを10μm以下、さらにはナノメートル単位の精度で薄くする必要があるため、TTV制御は「あれば良い技術」から**「製造の成否を決める絶対条件」**へと進化しています。


1. なぜTTV制御が重要なのか?(2026年の視点)

微細化が進むにつれ、わずかな厚みのムラが致命的な欠陥に繋がります。

  • 露光のピント(デフォーカス)防止:

    ウェハが平坦でないと、最先端のEUV(極端紫外線)露光装置で回路を焼き付ける際、場所によってピントがズレてしまいます。TTVが悪化すると、チップの一部で回路が断線・短絡し、歩留まりが激減します。

  • 裏面コンタクトの接続精度:

    BSPDNでは、裏面からトランジスタへ電極を繋ぎますが、ウェハの厚みが不均一だと、ある場所では電極が届かず、別の場所では削りすぎて素子を破壊してしまいます。

  • 3D積層・チップレットの接合:

    複数のウェハを貼り合わせる際、TTVが大きいと接合面に隙間ができ、熱膨張による剥離や信号不良の原因となります。


2. 2026年現在の最新制御技術

TTVを**1μm以下(ナノメートルオーダー)**に抑えるため、以下のような高度なシステムが実用化されています。

① リアルタイム・インプロセス計測

削りながら厚みを測る「止まらない計測」が主流です。

  • 非接触レーザー/超音波センサー: 研削(グラインディング)中にウェハの厚みをリアルタイムでスキャンし、わずかな傾きやムラを即座に装置のヘッドへフィードバックして修正します。

  • 自動軸調整(アクティブ・スピンドル制御): センサーの情報を元に、研削ホイールの軸(スピンドル)の角度をマイクロラジアン単位で自動調整し、ウェハ全面を均一に削り取ります。

② 適応型加工(アダプティブ・グラインディング)

  • AIによる予測制御: 過去の加工データと現在のウェハの状態をAIが照合し、加工中に発生する「熱によるウェハの歪み」を予測。その歪みを打ち消すように削り圧力を動的に変化させます。

  • チャックテーブルの平坦度補正: ウェハを固定する台(チャック)自体の摩耗や歪みを自動計測し、あらかじめ補正を加える技術も進化しています。


3. 主要企業の技術ソリューション

TTV制御において世界をリードする日本企業の動向です。

  • ディスコ (DISCO):

    世界トップシェアのグラインダーを提供。独自の「インプロセス厚み計測システム」により、加工を止めずにTTVを極小化する技術を確立しています。2026年にはBSPDN特化型の超精密加工機を市場に投入しています。

  • 東京精密 (ACCRETECH):

    計測技術に強みを持ち、「測りながら削る」精度の高さで定評があります。2026年初頭のプライベートショー等でも、AIを活用した自律型のTTV制御ソリューションを展示し、複雑化する3D ICパッケージングへの対応を強化しています。


4. TTV制御の指標(目安)

現在のハイエンドプロセスにおける要求水準は以下の通りです。

世代・用途 要求されるTTVレベル 備考
レガシー (28nm〜) < 3.0 μm 一般的なメモリや車載半導体
最先端 (2nm / GAA) < 1.0 μm ハイエンドスマホ・サーバー用CPU
BSPDN / CFET世代 < 0.5 μm (500nm) 裏面電源供給や3D積層に必須

 

「削る」から「測りながら整える」へ

2026年のTTV制御は、もはや単なる研磨工程ではなく、高度な「計測」と「精密機械制御」が一体となったデジタル・フィードバック・システムへと変貌しています。

 

 

出典:Google Gemini

 

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