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InGaAs MOSHEMT および GaN-on-Si のMOSHEMTの高周波特性比較

GLOSSARY

InGaAs MOSHEMT と GaN-on-Si E-mode MOSHEMT は、それぞれ異なる材料特性に基づき、優れた高周波特性を示します。主な高周波特性は、遮断周波数 (fTf_{T}) と 最大発振周波数 (fmaxf_{max}) で評価されます。

InGaAs MOSHEMT

InGaAsは電子移動度が高く、GaAsやSiと比べて格段に高速なスイッチングが可能です。これにより、高 fTf_{T}、高 fmaxf_{max} を実現します。特に、ゲート長を短くすることで、fTf_{T}が350 GHz以上、fmaxが550 GHz以上といった、非常に優れた特性が得られています。この特性は、ミリ波やテラヘルツ波帯の通信デバイス、特に超高速トランジスタや低ノイズ増幅器に利用されます。

GaN-on-Si MOSHEMT

GaNは広いバンドギャップを持ち、高い耐圧と出力密度を実現します。GaN-on-Siは、高価なGaN基板の代わりに安価なSi基板を使用することでコストを抑えつつ、GaNの優れた特性を活かします。E-mode(エンハンスメントモード)は、通常ONのD-mode(デプレッションモード)と異なり、ゲート電圧を印加しないとOFFになるため、回路の簡素化や消費電力の低減に貢献します。

GaN-on-Si E-mode MOSHEMTは、InGaAsほど高い電子移動度はないものの、高耐圧、高出力という特長から、マイクロ波帯のパワーアンプや高効率スイッチング電源に広く利用されます。高周波特性としては、数GHzから数十GHz帯で高い性能を発揮し、基地局やレーダーシステムなど、高い出力と信頼性が求められる用途に適しています。


比較のまとめ

特性

InGaAs MOSHEMT

GaN-on-Si E-mode MOSHEMT

主な特長

高い電子移動度、超高速動作

高耐圧、高出力、低コスト

fTf_{T} / fmaxf_{max}

非常に高い (fTf_{T} > 350 GHz)

高い (数GHz〜数十GHz)

主要用途

ミリ波/テラヘルツ通信、低ノイズ増幅器

マイクロ波パワーアンプ、スイッチング電源

材料特性

格子定数の整合、高速電子

広いバンドギャップ、高耐圧

利点

超高速、高周波性能

高出力、高効率、コスト効率

InGaAsは速度を極限まで追求する用途、GaN-on-Siは電力と効率が重要な用途にそれぞれ強みを発揮します。

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【本パワエレ基礎コースの目次】

1.パワーエレクトロニクスの基本の基本編 a)パワー半導体デバイスの種類 次世代パワー半導体の理解を目的に分類し特長を解説 (整流ダイオード、バイポーラトランジスタ、MOSFET、IGBT、GTO) b)そもそも電力変換って、何のために、何をしてるの? 4方式(DCDC、DCAC、ACDC、ACAC)の例を挙げて理解

2.損失の考え方と電力変換の高効率化 a)電力変換とは?その測定例 b)高効率が求められる背景 c)MOSFET損失の簡単な計算例 d)Web回路シミュレーターの活用

3.次世代パワーデバイスの種類と概説 a)Si-IGBTの新構造が続々登場 b)シリコンカーバイド c)窒化ガリウム d)酸化ガリウム e)ダイヤモンド

4.パワーデバイスの最新応用例 (特にSiCなど次世代パワーデバイスを中心に解説) a)PFC回路 b)サーバー、通信 c)太陽光発電 d) 蓄電システム e) UPS f)インダクション・ヒーター g)急速充電 h) ワイヤレス給電 i) 電気自動車への利用(オンボード充電器、トラクションモーター)

5. その他(本シリーズ外で動画公開中+順次新規公開) a)パワーデバイスの市場動向(2,3カ月毎) b)パワーMOSFETの高性能を引き出す設計例 c)新興アプリケーション紹介

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出典:SiCパワー半導体推進部

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