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  • 単分子誘電体POM
    「単分子誘電体(Single-Molecule Dielectrics)」としての**POM(ポリオキソメタレート)**は近年注目…
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  • 空間合成器を用いた実際のSSPA製品の内部構造
    Q/Vバンドにおける空間合成(Spatial Power Combining)技術を用いたSSPA(Solid State Power Amplifier…
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  • 永久磁石同期電動機の速度センサレス制御
    永久磁石同期電動機(PMSM)の速度センサレス制御は、回転子の位置や速度を検出するための物理的なセン…
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  • PCSELとVCSELの違い
    PCSELとVCSELは、どちらも「チップの表面から垂直に光が出る」という点では似ていますが、その中身(光…
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  • アクティブプローブにダンピング抵抗を使う
    アクティブ・プローブの場合、パッシブ・プローブとは内部構造(特に入力容量 C の小ささ)が根本的に異…
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  • 28Gbps 高速I/O(SerDes)FPGA 評価ボード
    28Gbpsクラスの高速I/O(SerDes)を評価・開発するためのFPGA評価ボードは、主にハイエンドなネットワー…
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  • HFM TDRによるインピーダンス・プロファイル評価
    MultiGBASE-T1(IEEE 802.3ch)のような超高速差動伝送では、周波数ドメインのSパラメータ(SDD11)だけ…
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  • スピントロニクス半導体とCMOS技術の融合
    スピントロニクス半導体とCMOS技術を融合させることは、次世代の半導体技術において最も重要な研究開発…
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  • 車載スマートセンサーにおけるSerDes技術
      🚗 車載スマートセンサーにおけるSerDes技術の技術分析   SerDes (Serializer/Deserializer)…
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  • ASA Motion Linkの物理層
    ASA Motion Link (ASA-ML)の**物理層(PHY)は、非対称通信と時分割多重(TDD)**を採用し、車載環境の…
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  • FD-SOI FET の構造的特徴
    FD-SOI(Fully Depleted Silicon On Insulator)は、次世代の半導体プロセス技術の一つで、特に低消費電…
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  • ガラスコア基板におけるABFの役割
    次世代のパッケージ基板として注目されている**「ガラスコア基板(Glass Core Substrate)」**において…
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  • UEC(Ultra Ethernet)の技術仕様
    2025年6月に正式リリースされた「UEC Specification 1.0」に基づき、その詳細な技術仕様を解説します。 …
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  • パワー半導体の電力損失を低減できる仕組み 「第8世代IGBT」
    2026年1月14日、三菱電機、東京科学大学(旧 東工大)、筑波大学、Quemix(ケミックス)の研究グループ…
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  • I3C(Improved Inter-Integrated Circuit)
    「I3C(Improved Inter-Integrated Circuit)」は、EEPROMやセンサーの分野で、これまで主流だった I2C…
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  • PCSELの開発 社会実装
    PCSELの開発は、京都大学の野田進教授を中心とした産学連携プロジェクトにより、日本企業が世界を大きく…
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  • DC-DC(双方向・多相) 4ポート磁気結合コンバータの位相差
    DC-DC(双方向・多相)4ポート磁気結合コンバータにおいて、**「位相差(Phase Shift)」**は、各ポート…
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  • ANNベースの正弦波変調低速センサレス制御
    「ANN(人工ニューラルネットワーク)ベースの正弦波変調低速センサレス制御」は、モータ制御における非…
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  • 太陽光発電におけるFIP(Feed-in Premium)制度
    FIP制度(フィード・イン・プレミアム)の仕組み 太陽光発電におけるFIP(Feed-in Premium)制度は、従…
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  • AMD RFSoCを用いた4.5 GHz系の評価におけるアップコンバート後…
    AMD RFSoC(Gen3以降など)を使用して4.5 GHz帯の信号を生成し、それを110 GHzクラスの超広帯域システム…
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