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  • 傳田精一先生
    傳田精一(でんだ せいいち)先生は、日本の半導体産業の黎明期から発展期にかけて多大な貢献をされた、…
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  • MgO-based magnetic tunnel junctions (MgO-MTJ) を用いたブレ…
    MgO-based magnetic tunnel junctions (MgO-MTJ) を用いたブレインモルフィック(脳型)システムは、現…
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  • DRAMとNANDフラッシュ最新スマホへの影響
    2026年現在の最新スマートフォン市場において、DRAM(メモリ)とNANDフラッシュ(ストレージ)の価格高…
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  • MicroVFD(可変周波数ドライブ)メリット
    QPTのMicroDynoおよびそのコア技術であるMicroVFD(可変周波数ドライブ)は、EV(電気自動車)と産業用…
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  • トレンチ側壁の保護膜厚の制御
    トレンチ(溝)側壁の保護膜厚の制御は、半導体プロセスにおいて**「垂直なエッチング形状(異方性)」*…
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  • オシロスコープ GaN測定対応
    オシロスコープ GaN測定対応とは?   GaN(窒化ガリウム)は、近年注目されている高効率・高速スイ…
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  • アクティブプリチャージ 降圧トポロジのスイッチングコンバータ
    アクティブプリチャージ(Active Pre-Charge)回路で、降圧(Buck)トポロジのスイッチングコンバータを…
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  • ダイ・トゥ・ウェーハ・ハイブリッド接合(Die-to-Wafer Hybrid…
    「ダイ・トゥ・ウェーハ・ハイブリッド接合(Die-to-Wafer Hybrid Bonding)」は、主に半導体の**3次元…
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  • USB4を導入している企業
    USB4(および最新のUSB4 Version 2.0)は、現在、パソコンメーカーから周辺機器メーカー、さらには内部…
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  • RHOM 4ピンパッケージ(ケルビン接続)
    ローム(ROHM)が提供する4ピンパッケージ(TO-247-4Lなど)は、**「ケルビン接続(Kelvin Connection)…
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  • Intelの製造プロセス(18A/14A)
    Intelの製造プロセスにおける**18A(1.8nmクラス)と14A(1.4nmクラス)**は、単なる微細化のステップで…
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  • DONUT LAB(ドーナツラボ)の全固体電池の「価格」と「供給計画…
    DONUT LAB(ドーナツラボ)の全固体電池の「価格」と「供給計画」については、これまでの電池開発の常識…
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  • FTQCによる暗号解読や新材料の発見など
    PsiQuantumがブリスベンで建設中の「100万量子ビット機」が完成すると、計算の世界は「予測」から「シミ…
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  • HTA技術のプロセス詳細
    名城大学の三宅教授らが確立したHTA(High-Temperature Annealing:高温熱処理)技術は、サファイア基板…
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  • オシロスコープでの波形観測方法とは?
    オシロスコープでの波形観測方法とは? オシロスコープは、電気信号の電圧の時間的変化(波形)を視覚的…
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  • 4chコヒーレント信号発生器 MIMO
    承知いたしました。4chコヒーレント信号発生器が、高速無線通信技術であるMIMO (Multiple-Input Multipl…
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  • QST基板を用た高耐圧GaN HEMTデバイス
    QST基板を用いた高耐圧GaN HEMTデバイスは、従来のシリコン(Si)基板上GaNデバイスが抱えていた課題を…
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  • 200G/レーン SerDesの技術成熟
    🚀 200G/レーン SerDesの技術成熟度 200G/レーン (200G/lane) のシリアライザ/デシリアライザ(SerDes…
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  • STT-MRAM(スピン注入メモリ)と「ロジック・イン・メモリ」
    パワースピン株式会社が核とする2つの革新的技術、STT-MRAMとロジック・イン・メモリについて、その仕組…
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  • BMWやベンツなどがGaNをどう車載に組み込もうとしているか?
    2026年現在、BMWやメルセデス・ベンツといった欧州メーカーも、テスラとは異なるアプローチで**GaN(窒…
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