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  • DONUT LABの全固体電池 材料 プロセス
    DONUT LABの全固体電池は、従来の電池開発の常識を覆すような「独自の材料構成」と「新しい製造プロセス…
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  • vdW積層構造(ファンデルワールス・ヘテロ構造)
    vdW積層構造(ファンデルワールス・ヘテロ構造)の面白い点は、原子1層レベルの「レゴブロック」のよう…
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  • トポロジカル絶縁体
    魔法角から少し角度をずらしたり、特定の積層順序に変えたりすることで、物質は「超伝導体」から一転し…
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  • 特定次数の高調波が削減可能な双方向絶縁型DC-DCコンバータ
    双方向絶縁型DC-DCコンバータ(DABやMABなど)において、**「特定次数の高調波削減(Selective Harmonic…
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  • ACアダプタからの漏れ磁束によるハーベスティング
    ACアダプタや電源ケーブルから発生する**漏れ磁束(磁界)**を利用したエネルギーハーベスティングは、…
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  • 車載信頼性規格(AEC-Q101)第5世代SiC
    トラクションインバータやOBCなどの基幹部品に第5世代SiC MOSFETを採用する上で、避けて通れないのが車…
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  • セラミックコンデンサの「鳴き」現象 共振(AEC-Q200-003)
    セラミックコンデンサの「鳴き」現象は、電子機器の静かな室内で使用される際に「キーン」や「ジー」と…
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    • Z_LCR
  • 酸化膜電荷(Oxide Charge)とは
    酸化膜電荷(Oxide Charge)とは ~MOS構造における電気的特性に大きく影響する固定電荷~ ■ 定義 **…
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  • メモリ不足によりテクノロジー業界でパニック買いが発生
    DigiTimesによると、メモリ調達ブームは2025年第4四半期に激化し、サプライチェーン全体でパニック買いを…
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  • 広域連系海底線計画
    「広域連系海底線計画」は、電力の広域的融通を強化し、再生可能エネルギー(再エネ)の最大限の導入と…
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  • 800VシステムのEV SiC MOSFET
    ポルシェ・タイカンやヒョンデ・アイオニック5などが採用する**「800Vシステム」**は、EVの歴史における大…
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  • NVIDIAは次世代AIプラットフォーム「Rubin(ルービン)」を正式…
    2026年1月、NVIDIAは次世代AIプラットフォーム**「Rubin(ルービン)」を正式に発表しました。HBM4は単…
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  • 富士電機とボッシュ、互換性あるSiC車載モジュール開発
    富士電機とドイツのボッシュ(Robert Bosch)は、電動車(xEV)向けSiC(炭化ケイ素)パワー半導体モジ…
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  • 脳型メモリ素子(ニューロモルフィック素子)
    脳型メモリ素子(ニューロモルフィック素子)は、従来のコンピュータの構造(フォン・ノイマン型)を根…
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  • インジウムリン基板
    インジウムリン(InP)基板は、次世代の高速通信や光通信を支える極めて重要な「化合物半導体」の材料で…
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  • 太陽電池のIV特性測定法
    シリコン太陽電池のIV特性(電流-電圧特性)の測定は、セルの変換効率や最大出力を評価するための最も基…
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  • USB PD (Power Delivery) アダプタ フライバックIC
    USB PD(Power Delivery)アダプタは、USB Type-Cコネクタを利用して最大240W(最新のUSB PD 3.1規格)…
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  • 次世代マスク(High-kマスク等)
    次世代のHigh-kマスク(高吸収体マスク)は、高NA EUVリソグラフィにおいて不可欠な技術です。 従来のE…
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  • 電力管理チップ(PMIC)
    PMICとは、Power Management IC(パワーマネジメントIC)の略で、電子機器における電源の制御と分配を一…
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  • CFET IntelやTSMCのロードマップにおける位置付け
    IntelやTSMCの最新のロードマップにおいて、CFETは「ナノシート(GAA)構造」の次に控える2030年前後の…
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