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GaN(窒化ガリウム)パワーデバイスは、従来のSi(シリコン)に比べて高速スイッチングが可能で、電力変…
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ダブルゲート構造IEGT技術は、従来のIEGT(シングルゲート構造)が抱えていた、導通損失(オン電圧)と…
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**OCTRAM(Oxide-Semiconductor Channel Transistor RAM)**は、キオクシアと台湾の南亜科技(Nanya Tec…
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2026年現在、HPC(高性能計算)とAIの境界はほぼ消滅し、インターコネクト技術は「単なる通信路」から「…
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三菱電機などが発表した新技術(水素による電子生成メカニズムの解明)が実際のEVに搭載される時期は、*…
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QPTのMicroDynoおよびそのコア技術であるMicroVFD(可変周波数ドライブ)は、EV(電気自動車)と産業用…
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「フラッシュLiDAR」は、PCSELの電子スキャンとはまた異なるアプローチの技術です。簡単に言うと、**「…
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- キャリアレスハイブリッドインバータの高効率化
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キャリアレス(トランスレス)ハイブリッドインバータの高効率化は、近年の再生可能エネルギーシステム…
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- デバイ・リラクゼーションの連続体
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「デバイ・リラクゼーション(Debye Relaxation)の連続体」という考え方は、全固体電池のような複雑な…
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- SiC (Gen 5) 帰還容量 Crss
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第5世代(Gen 5)SiC MOSFETにおいて、**帰還容量(Crss:帰還容量、または Cgd)**の低減は、スイッチ…
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ガルウイングリード(Gull-wing Lead)パッケージは、表面実装型(SMT)部品の代表的な形状の一つで、カ…
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iPhone 12以降で導入されたMagSafe充電器は、従来のワイヤレス充電規格「Qi(チー)」に、Apple独自の「…
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高周波マルチレベルSST(ソリッドステート変圧器)のトポロジは、電力インフラ(13.8kV〜35kVクラスのグ…
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酸化膜厚(Oxide Thickness)とは ~MOS構造や絶縁膜評価における基本指標~ ■ 定義 酸化膜厚(Oxide…
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チップレットパッケージ基板とは、複数の**チップレット(機能ごとに分割された半導体ダイ)**を電気的…
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PMSM(永久磁石同期モータ)のトルクリプル抑制制御に複素オールパスフィルタを用いる手法は、近年研究…
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TOLT (TO-Leadless Top-side Cooling)とTSPAK (TO-Leaded Small-outline Package)は、主にSiC(炭化ケイ…
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SiC(炭化ケイ素)パワーデバイスにおける高エネルギーイオン注入を用いた劣化抑制技術は、主に**「バイ…
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48V車載システムにおいて、eFuse(電子ヒューズ)と理想ダイオードは、システムの信頼性と安全性を支え…
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トレンチ型SiC-MOSFET(Silicon Carbide MOSFET)チップは、従来のシリコン(Si)製パワー半導体に比べ…

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