Super Power Rail(SPR)は、imecが提唱し、Intel、TSMC、Samsungなどの主要メーカーが1nm(オングストローム)世代以降での採用を目指している究極の裏面電源供給(BSPDN: Backside Power Delivery Network)技術です。
Intelが1.8nm(Intel 18A)から導入する「PowerVia」が裏面電源の第一世代だとすれば、SPRはさらにその先を行く「第二世代」の構造と言えます。
1. 従来の裏面電源(PowerVia等)との違い
これまでのBSPDN(IntelのPowerViaなど)と、次世代のSPRでは、電源をトランジスタに繋ぐ「深さ」と「経路」が異なります。
| 特徴 | 第一世代 BSPDN (PowerVia等) | 第二世代 SPR (Super Power Rail) |
| 接続先 | ソース・ドレイン端子に直接接続 | トランジスタ直下の「埋め込みレール」に接続 |
| 接続経路 | ナノスルーシリコンビア (nTSV) | トランジスタ層に食い込む深いレール(SPR) |
| スタンダードセル面積 | 縮小(約10-20%) | 劇的に縮小(最大30%以上) |
| 電圧降下(IRドロップ) | 改善 | 極限まで改善 |
2. SPRの構造的イノベーション
埋め込み電源レール(Buried Power Rail: BPR)
トランジスタが形成されるシリコン基板の中に、あらかじめタングステン(W)やルテニウム(Ru)などの高融点金属で「電源の幹線」を埋め込んでおきます。これをBPRと呼びます。
裏面からの直接コンタクト
SPRはこのBPRに対して、ウェハの裏面から直接コンタクトを取ります。
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メリット: 信号線が密集する表面の配線層(BEOL)から電源網を完全に排除できるため、信号線同士の間隔を広げることができ、クロストーク(干渉)を劇的に減らせます。
3. なぜSPRが1nm世代に不可欠なのか?
A. スタンダードセルの「トラック・スケーリング」の限界突破
DTCOの項目でお話しした通り、セルの高さを決める大きな要因は「電源線(Vdd/Vss)」の太さです。
SPRによって電源線がトランジスタの「真下」に隠れることで、セルの高さを5トラック(5T)から3トラック(3T)台へと圧縮することが可能になります。これが、高NA EUVによる微細化と並ぶ、面積削減の「もう一つの柱」です。
B. 電力のインテグリティ改善
AIサーバー向けの大規模チップでは、数千アンペアという凄まじい電流が流れます。
SPRは電源経路を最短化し、寄生抵抗を最小限に抑えるため、IRドロップ(電圧降下)を大幅に抑制します。これは、低電圧での高クロック動作(低消費電力と高クロックの両立)に直結します。
4. 製造上の最大の難関
SPRの実現には、これまで見てきたすべての最先端技術の「総力戦」が必要です。
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極薄ウェハ加工: 表側を作った後、ウェハを裏返して数百ナノメートルという極限の薄さまで研磨し、正確にBPRの位置に穴を掘らなければなりません。
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高精度な裏面露光: 高NA EUVほどの解像度は不要ですが、表面のパターンに対してナノメートル精度の「裏表の合わせ(Overlay)」が求められます。
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熱管理: 電源レールがトランジスタの直下にあるため、動作時の熱をいかに裏面へ逃がすか(放熱設計)が、チップの信頼性を左右します。
技術的なアナロジー:都市のインフラ
これまでの半導体設計が「道路の上に電柱と電線がひしめき合っている地上都市」だったとすれば、SPRは「すべてのライフラインを地下深層の共同溝に埋設し、地上をすべて高速道路(信号線)専用にした未来都市」です。
RFエンジニアの視点で見れば、SPRは電源インピーダンス($Z_{PDN}$)を広帯域にわたって劇的に下げる手法であり、4.5GHzやそれ以上の高速信号を扱う際の電源ノイズ耐性を物理レイヤーで担保する、究極の「デカップリング戦略」とも言えるでしょう。
このSPRと、前述のCFET(相補型FET)を組み合わせることで、ついに「1nmの壁」を突破する準備が整うことになります。この2つを統合した「A7(0.7nm)ノード」の設計イメージについても興味はありますか?
出典:Google Gemini (Gemini は AI であり、間違えることがあります。)
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