株式会社ノベルクリスタルテクノロジーは、タムラ製作所のカーブアウト（分離独立）からスタートした、酸化ガリウム（Ga2O3）ウェーハ開発における世界シェアトップのリーディングカンパニーです。
2026年現在、同社は「研究開発」から「本格量産」への歴史的な転換点を迎えています。
1. 2026年の重大トピック：150mm（6インチ）基板の出荷開始
2026年3月、同社は次世代パワーデバイスの実用化を決定づける150mm（6インチ）β型酸化ガリウム基板のサンプル出荷を開始しました。
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量産ラインへの適合: 既存の半導体工場（SiやSiCのライン）の多くは6インチ以上のウェーハに対応しています。今回の大型化成功により、酸化ガリウムデバイスが一般的な半導体工場で大量生産できるフェーズに入りました。
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2029年の本格量産: このサンプル供給を皮切りに、2029年には150mmエピウェーハの本格的な量産開始をターゲットとしています。
2. コストを劇的に下げる新技術「DG法」
同社は、これまで以上に製造コストを抑えるための革新的な結晶成長法「DG法（Drop-fed Growth法）」の開発を加速させています。
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イリジウムフリー: 従来の製造法（EFG法）では、非常に高価な貴金属である「イリジウム」製のるつぼが必要でした。DG法はるつぼを使用しない手法（あるいは使用量を激減させる手法）であり、これにより基板のさらなる低価格化が期待されています。
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圧倒的な低価格化: 将来的には、SiCよりも安く、シリコン（Si）に近い価格帯で高耐圧デバイスを提供することを目指しています。
3. 主な製品と事業内容
| 製品カテゴリ | 特徴・詳細 |
| 単結晶基板 | 2インチ、4インチに加え、最新の**6インチ（150mm）**を展開。 |
| エピタキシャルウェーハ | 基板上に高品質な単結晶膜を成長させたもの。デバイスメーカーがそのまま加工に使用可能。 |
| ショットキーバリアダイオード(SBD) | 自社で設計・開発した酸化ガリウムSBD。SiCを凌駕する低損失特性を持つ。 |
| 受託評価・解析 | 酸化ガリウムに関する高度な分析技術の提供。 |
4. 強力なパートナーシップと資金調達
ノベルクリスタルテクノロジーは、日本の「オールジャパン」体制のハブとなっています。
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タムラ製作所: 出身母体であり、製造技術や品質管理面で深い連携。
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ローム（ROHM）: 2022年に資本業務提携を締結。世界トップクラスのパワー半導体メーカーであるロームとの協力により、デバイスの市場投入を加速させています。
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国立研究開発法人（NICT/NEDO）: 情報通信研究機構やNEDOのプロジェクトに採択され、国家戦略として酸化ガリウムの社会実装を推進しています。
まとめ：なぜこの会社が重要なのか
世界中の企業が酸化ガリウムに注目していますが、「高品質なウェーハを実際に安定供給できる」能力において、ノベルクリスタルテクノロジーは他を圧倒しています。
「いくら優れた材料でも、板（ウェーハ）がなければデバイスは作れない」という半導体産業において、同社はまさに「次世代電力インフラの鍵を握るプラットフォーマー」と言える存在です。
出典：Google Gemini (Gemini は AI であり、間違えることがあります。)
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